Facilidades

O sistema de crescimento epitaxial SVT (diagrama do sistema) para compostos semicondutores do grupo III-V é composto por três camaras de ultra-alto vácuo:
1 - Câmara de pré-preparação; 2 - Câmara de introdução; 3 - Câmara crescimento. Todo o sistema bem como o processo de crescimento é monitorado através de um computador.

O sistema foi instalado em uma sala-limpa classe 10.000 com área de preparação de substratos de classe 100 (temperatura e umidade controladas) com sistema de água purificada, ar comprimido, sistema de bck-up elétrico (infraestrutura de apoio).